Máy phủ PVD AF là thiết bị xử lý bề mặt tiên tiến, chủ yếu được sử dụng để phủ một lớp vật liệu florua hữu cơ lên các chất nền khác nhau nhằm cung cấp các chức năng như chống thấm, chống dầu, chống trầy xước, chống dấu vân tay, chống ô nhiễm và dễ dàng làm sạch. Máy phủ PVD AF có nhiều ứng dụng, bao gồm nhưng không giới hạn ở việc xử lý lớp phủ cho màn hình máy tính, màn hình điện thoại di động, màn hình iPad, màn hình máy ảnh, v.v., có thể cải thiện đáng kể hiệu suất trang trí bề ngoài và độ bền của phôi. Mô hình này áp dụng công nghệ phóng hồ quang điện áp thấp và dòng điện cao để làm bay hơi vật liệu mục tiêu và ion hóa cả chất và khí bay hơi. Quá trình lắng đọng chất bay hơi và các sản phẩm phản ứng của nó trên phôi được tăng tốc nhờ điện trường.
